- 加熱爐設(shè)備
- 晶體及材料
- 破碎/球磨設(shè)備
- 壓片設(shè)備
- 輥壓設(shè)備
- 切割設(shè)備
- 磨拋設(shè)備
- 清洗設(shè)備
- 電池研發(fā)設(shè)備
- 薄膜制備
- 配件
- 其它實(shí)驗(yàn)室設(shè)備
1200℃雙坩堝移動(dòng)型管式爐
- 關(guān)鍵字:
- 雙溫區(qū)、開(kāi)啟式、同時(shí)移動(dòng)
- 型號(hào):
- OTF-1200X-Ⅱ-S2
- 產(chǎn)品概述:
- OTF-1200X-Ⅱ-S2是一款雙溫區(qū)帶有升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)的共蒸發(fā)多層沉積管式爐,通過(guò)升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)可裝載4個(gè)不同材料的蒸發(fā)坩堝舟,并且可一次同時(shí)送入兩個(gè)蒸發(fā)坩堝源進(jìn)入管式爐中進(jìn)行共蒸發(fā)或反應(yīng)蒸發(fā)。雙溫區(qū)管式爐可以實(shí)現(xiàn)快速加熱,并且通過(guò)對(duì)各個(gè)溫區(qū)設(shè)置不同的加熱溫度可以創(chuàng)建不同的溫度梯度從而實(shí)現(xiàn)蒸發(fā)沉積。雙通道進(jìn)料系統(tǒng)可以在程序控制下將2個(gè)裝載不同蒸發(fā)料的坩堝一同推進(jìn)拉出,實(shí)現(xiàn)共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā),適用于多層二維晶體材料的制備。
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管式爐
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雙溫區(qū)管式爐:兩個(gè)獨(dú)立的溫控系統(tǒng)對(duì)每個(gè)溫區(qū)進(jìn)行獨(dú)立控溫 電壓:220V AC 50/60Hz 功率:3KW 加熱區(qū)長(zhǎng)度:440mm 恒溫區(qū)長(zhǎng)度:300mm 溫度曲線圖(兩個(gè)溫區(qū)設(shè)置在800℃時(shí)所測(cè),僅供參考)(可點(diǎn)擊圖片查看詳細(xì)資料)
爐管材料:高純石英管 標(biāo)配爐管尺寸:Φ100(外)×Φ94(內(nèi))×640(長(zhǎng)) 最高工作溫度:1200℃(<1h) 連續(xù)工作溫度:1100℃ 控溫精度:±1℃ 推薦升溫速率:10℃/min
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坩堝推送機(jī)構(gòu)(升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng))
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一根鎧裝熱電偶通過(guò)左端法蘭通入爐管內(nèi)部,并與坩堝相連接,實(shí)現(xiàn)溫度的實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)(如圖1) 升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)放置在一中空的真空腔體中,上方采用不銹鋼真空法蘭進(jìn)行密封,兩端同樣采用不銹鋼真空法蘭與坩堝推進(jìn)裝置及管式爐進(jìn)行連接,保證進(jìn)料在真空狀態(tài)或者氣氛保護(hù)狀態(tài)下進(jìn)行運(yùn)作(圖2) 進(jìn)料系統(tǒng)真空腔體右端與管式爐連接法蘭處安裝有2個(gè)獨(dú)立小石英管(圖3) 在升降雙通道進(jìn)料系統(tǒng)中最多可放入4個(gè)坩堝(圖4),利用推送系統(tǒng)可交替將4個(gè)不同蒸發(fā)源單個(gè)依次送入石英管中,也可將放入不同材料的2個(gè)坩堝蒸發(fā)源一同送入,分別精確的推入兩個(gè)獨(dú)立的小石英管中(圖5),找到所需的蒸發(fā)溫度處進(jìn)行共蒸發(fā)或者反應(yīng)蒸發(fā),保證實(shí)驗(yàn)的重復(fù)性以及穩(wěn)定性(圖6)
圖1 圖2 圖3 圖4
圖5 圖6
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坩堝推送控制系統(tǒng)
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真空表
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機(jī)械壓力表+數(shù)顯壓力表 |
真空泵
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混氣系統(tǒng)
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此套設(shè)備中配有一2路混氣系統(tǒng) 最大輸出功率:18W 工作溫度:5-45℃ 精度:±1%FS 質(zhì)量流量計(jì)量程:1:0-100sccm 2:1-199sccm 可根據(jù)客戶要求選購(gòu)1-5路供氣系統(tǒng)
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水冷系統(tǒng)
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尺寸
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國(guó)家專利
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質(zhì)保期
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一年質(zhì)保期,終生維護(hù) |
質(zhì)量認(rèn)證
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使用注意事項(xiàng)
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爐管內(nèi)氣壓不可高于0.02MPa 由于氣瓶?jī)?nèi)部氣壓較高,所以向爐管內(nèi)通入氣體時(shí),氣瓶上必須安裝減壓閥,建議在本公司選購(gòu)減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時(shí)會(huì)更加精確安全 當(dāng)爐體溫度高于1000℃時(shí),爐管內(nèi)不可處于真空狀態(tài),爐管內(nèi)的氣壓需和大氣壓相當(dāng),保持在常壓狀態(tài) 進(jìn)入爐管的氣體流量需小于200SCCM,以避免冷的大氣流對(duì)加熱石英管的沖擊 石英管的長(zhǎng)時(shí)間使用溫度<1100℃ 對(duì)于樣品加熱的實(shí)驗(yàn),不建議關(guān)閉爐管法蘭端的抽氣閥和進(jìn)氣閥使用。若需要關(guān)閉氣閥對(duì)樣品加熱,則需時(shí)刻關(guān)注壓力表的示數(shù),若氣壓表示數(shù)大于0.02MPa,必須立刻打開(kāi)泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)
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應(yīng)用舉例
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此款管式爐具有多種用途: 熱蒸發(fā):將蒸發(fā)料放入坩堝中,通過(guò)移動(dòng)坩堝來(lái)精確找到所需蒸發(fā)溫度 HPCVD:通入反應(yīng)氣體實(shí)現(xiàn)反應(yīng)蒸發(fā)沉積 共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積:利用獨(dú)特的雙通道進(jìn)料裝置可以實(shí)現(xiàn)兩蒸發(fā)源的同時(shí)送入,實(shí)現(xiàn)共蒸發(fā)沉積或反應(yīng)蒸發(fā)沉積 多層二維晶體:此套設(shè)備可以實(shí)現(xiàn)多層二維晶體的制備(硒化物硫化物等),操作方便簡(jiǎn)單,實(shí)驗(yàn)更具精確性、重復(fù)性。
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國(guó)家專利
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專利名稱:多樣品通道自動(dòng)切換進(jìn)樣系統(tǒng)
專利號(hào):ZL 2016 1 0396131.5
尊重創(chuàng)新、鄙視抄襲、侵權(quán)必究
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