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高真空腔體
型號(hào):
HVC-SS
產(chǎn)品概述:
這是一個(gè)預(yù)制多功能真空腔體,可以根據(jù)客戶需求定制,例如作為真空濺射腔體(可在頂部添加多個(gè)濺射靶頭),CVD,ALD等等。同時(shí),也可以單獨(dú)作為一個(gè)高真空儲(chǔ)存盒使用。
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腔體

·304不銹鋼制造,并配備有加強(qiáng)筋

·內(nèi)部尺寸:470mm L×445mm D×522mm H

·配備φ380 mm 密封門,配備150 mm玻璃觀察窗

·采用硅膠O型密封圈

·工作溫度范圍: -15 to 150°C


真空/壓力

·E-3 torr 使用機(jī)械泵,具體型號(hào)請(qǐng)點(diǎn)擊

·4E-5使用分子泵,具體型號(hào)請(qǐng)點(diǎn)擊


接口/配套裝置

·在腔體的右側(cè)安裝有一個(gè)KF40接口,用于連接真空泵

·共計(jì)4個(gè)KF25接口,三個(gè)在腔體右側(cè)一個(gè)在左側(cè)

·共計(jì)三個(gè)用于充放氣的真閥,兩個(gè)在在腔體后面,一個(gè)在左側(cè)

·頂部蓋板可以開啟,用于連接客戶定制的設(shè)備

·接口與閥門可以按照客戶的要求進(jìn)行定制

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應(yīng)用

·磁控濺射腔體:

 一個(gè)完整的磁控濺射系統(tǒng)包含:1個(gè)真空腔體,磁控濺射靶頭,濺射電源(DC or RF),真空泵系統(tǒng)(機(jī)械泵或者分子泵),水冷系統(tǒng)。

 圖示為一個(gè)使用真空腔體搭建的完成磁控濺射系統(tǒng)(DC/RF可切換)

 此真空腔體可以安裝單個(gè)或者多個(gè)濺射靶頭。最多安裝3個(gè)2"靶頭或5個(gè)1"靶頭。

 如果您有定制需求,請(qǐng)聯(lián)系我們對(duì)靶頭匹配等事宜進(jìn)行討論,我們可以在真空腔體上根據(jù)您的需求安裝好靶頭。

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應(yīng)用案例

·可安裝3個(gè)2"靶頭或5個(gè)1"靶頭

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可選

·請(qǐng)點(diǎn)擊圖1選擇通用的真空配件,點(diǎn)擊圖2選擇可以擺放此腔體的真空泵系統(tǒng)點(diǎn)擊 圖3選擇相關(guān)磁控濺射配件

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尺寸

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質(zhì)保

·質(zhì)保一年


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