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2英寸等離子磁控鍍膜儀 (可選直流射頻電源)
關鍵字:
單靶、可加熱旋轉樣品臺、非導電薄膜
型號:
VTC-2RF
產品概述:
VTC-2RF小型臺式單靶等離子濺射儀,配有一個2英寸的磁控等離子濺射頭和射頻等離子電源。一個可加熱的旋轉樣品臺,長期使用溫度為500℃,樣品臺與靶材之間的高度可調節(jié)。此款設備主要用于制作非導電薄膜,特別是一些氧化物薄膜。對于新型非導電薄膜的探索,它是一款性價比高并且高效的實驗幫手。如果客戶需要制作金屬薄膜,我們也可以配置高壓直流電源,適合客戶制作一些金屬薄膜。
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設備名稱與型號

2英寸等離子磁控鍍膜儀 (可選直流射頻電源)-VTC-2RF

基本參數

· 電源:AC 220V 50HZ

· 功率:<1800W

射頻電源

· 輸入電源:220V 3A

· 輸出功率:0-300W

· 輸出頻率:13.56 MHZ

· 冷卻方式:設備內部的冷卻方式為風冷

· 尺寸:444(長)*410(寬)*128(高)  

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磁控濺射頭

· 2英寸磁控濺射頭(帶有水冷夾層),采用快速接頭與真空腔體相連接

· 靶材尺寸要求:φ50*(0.1-5)mm厚

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· 2英寸磁控濺射頭可承受最大射頻功率:300W

· 2英寸磁控濺射頭可承受最大直流功率:500W


濺射腔室

·腔室尺寸:外徑φ166*內徑φ150*高250mm,采用高純石英制作

· 密封法蘭:直徑為174mm 采用金屬鋁制作,采用膠密封圈密封

·  法蘭蓋上安裝了一個可手動操作的擋板,用于靶材的預濺射,法蘭蓋上包含一個φ6.35的卡套接頭用于連接進氣管。

· 一個不銹鋼網罩住整個石英腔體以屏蔽等離子體

· 腔室真空度:<1.0×10-2 Torr (采用雙極旋片真空泵),<5×10-5 torr (采渦旋分子泵)

· 如果需要更高真空度,可以定做不銹鋼真空腔室(真空度可以達到5*10-6torr以下)

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· 腔體進氣口為Φ6.35mm的不銹鋼雙卡套接頭,通過聚四氟管可與氣瓶連接,并通過一個精密微量調節(jié)閥控制進氣量的大小。

樣品臺

· 樣品臺可旋轉(為了制膜更加均勻)并可加熱

· 樣品臺尺寸:直徑50mm (最大可放置2英寸的基片)

· 旋轉速度:1- 10 rpm(可調速)

· 樣品臺的最高加熱溫度為700℃(短期使用,恒溫不超過1小時),長期使用溫度500℃

· 控溫精度±10℃

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真空顯示單元

· 真空計型號ZDZ-52T

· 測量范圍:1.0×105Pa~1.0×10-1Pa

· 有效范圍:3.0×103Pa~1.0×100Pa

· 配接硅管:ZJ-52T/KF16

· 面板尺寸:96*96 mm

· 真空計配套的規(guī)管只能測量空氣和氮氣,有其他氣體成分比例較大的場合需另外修正。

真空系統(tǒng)(選配)

· 抽真空接口為KF25接口

· 真空泵型號:VRD-16

· 抽氣速率:4.4 L/S

· 電機功率:750 W

· 極限壓強:5×10-1Pa(不帶負載)

水冷設備(選配)

· 型號:KJ-5000

· 工作電流1.4-2.1A

· 制冷量2361Btu/h

· 尺寸55×28×43cm(長×寬×高)

· 水箱容量:6L

· 水流速率:16L/min

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薄膜測厚儀(可選) ?

· 一個精密的石英振動薄膜測厚儀安裝在儀器上,可實時監(jiān)測薄膜的厚度,分辨率為0.10 ?  

· LED顯示屏顯示,同時也輸入所制作薄膜的相關數據

圖片6.png   圖片7.png

外形尺寸

設備尺寸:550mm×寬550m×1100mm

爐架尺寸:600mm×寬600m×600mm

圖片8.png 

重量

約55KG

保質期

1年(不包密封圈等損耗件)






注意事項

· 腔室內氣壓不可高于0.02MPa(相對氣壓);

· 由于氣瓶內部氣壓較高,所以向石英管內通入氣體時,氣瓶上必須安裝減壓閥,為了確保安全,建議使用壓力低于0.02MPa,建議在本公司選購減壓閥,本公司減壓閥量程為0.01MPa-0.1MPa,使用時會更加精確安全;

· 對于樣品加熱的實驗,不建議關閉爐管法蘭端的抽氣閥和進氣閥使用。若需要關閉氣閥對樣品加熱,則需時刻關注壓力表的示數,若氣壓表示數大于0.02MPa,必須立刻打開泄氣閥,以防意外發(fā)生(如爐管破裂,法蘭飛出等)

· 我們不建議客戶使用易燃易爆和有毒的氣體,如果客戶工藝原因確實需要使用易燃易爆和有毒氣體,請客戶自行做好相關防護和防爆措施。由于使用易燃易爆和有毒氣體而造成的相關問題,本公司概不負責。


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