Idea
發(fā)布時間：2020-05-18
以下均為實驗室日常實驗、展會交流及文獻閱讀中迸發(fā)的小想法，部分經(jīng)過初步探究已得到可行性驗證，部分屬于進行探索實驗但未得到理想的實驗結果，還有一部分僅為研究思路，暫時未進行實驗研究。將這些Idea匯于此處，希望可以集思廣益，共同探索，共同進步。
注: 1. 由于我們水平有限，結論僅供參考，錯誤疏漏之處歡迎指出，我們非常期待您的建議。
2. 歡迎您提出其它實驗思路或是提出新的研究方向，我們相互交流學習。
3. 以下實驗案例及相關數(shù)據(jù)只針對科晶設備，不具有普遍性。
4. 因為涉及保密問題，以下數(shù)據(jù)僅為部分數(shù)據(jù)，歡迎老師與我們聯(lián)系，我們非常期待與您共同探討學習。
·（1）鉑薄膜制備工藝探索
·（2）電池元件鍍鉬工藝探索
·（3）PECVD影響因素工藝探索
·（4）等離子體濺射鍍硅
·（5）1h快速蒸鋁
·（6）Cu薄膜蒸鍍厚度探索
·（7）同樣尺寸靶材，濺射方向（直靶、斜靶、橫向靶）與最大鍍膜面積及鍍膜形貌的關系。
·（8）電池粉是否能省略漿料混合直接熱壓成膜。
·（10）小批量（<20mL）能否實現(xiàn)均勻混料。
·（11）如何利用管式爐實現(xiàn)金屬無氧化退火。
·（12）不減小粒徑的混料和減小粒徑的球磨對比研究。
·（13）基片清洗對旋轉(zhuǎn)涂膜的影響。
·（14）基片表面粗糙度與所鍍膜層形貌之間的關聯(lián)。
·（15）如何提高球磨機的球磨粒度均勻性？
·（16）機械泵回油對鍍膜影響。
·（17）科晶輥壓機輥壓極限的初步探究。
·（19）影響球磨效果的因素。
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